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マルチエンジニアリング部
構想設計~加工~組立~設置まで

「お客様の仕様に併せて」
株式会社中家製作所・装置技術部ではお客様の仕様に併せて構想設計~加工~組立~設置まで一貫した生産ラインで製作いたします。

Roll to Roll方式
酸化亜鉛成膜装置 NFD101

2014年6月に「RTR方式の酸化亜鉛成膜装置」を開発しました。レアメタルフリーかつ低コストの透明導電膜の提供に加え、フレキシベルな透明導電膜基板の提供が可能となり、計量、安価さらにはフレキシブルなPV、FPD等、今後の成長が期待できるフレキシブルデバイスへの提供が可能となりました。ここが中家製作所の Only One 技術:

① プラズマ支援堆積法による高品質酸化膜の成膜技術(日本、米国、欧州で特許取得)
② RTRフィルム搬送方式と原料ソースの配置方向の工夫により、省スペース設計と高メンテナンス性を実現(特許出願中)
③ 低コスト・単納期で高精度&高気密性を実現する組立式真空チャンバー(特許出願中)
ここが中家製作所のBest One技術:
① 独自手法による真空シール面の加工で高気密性確保
② ユーザーニーズを重視した操作性
③ 成膜品質検査装置も独自開発することで製造技術から品質確認までをトータルでサポート

膜質検査装置 NFT001

2011年7月に株式会社中家製作所 装置技術部にて開発成膜された基板を非破壊にて検査できる膜質検査装置NFT001(NAKAYA FILM TESTER001)を開発いたしました。 従来膜質の検査は破壊にて行っていましたが非破壊にて検査が可能にならないかと考えました。そこで開発されたのがNFT001。ヘッド部分に、膜厚計・抵抗率計・レーザー顕微鏡を搭載し膜厚・抵抗率・パーティクルカウンタの測定を可能とし、そのデータを3Dマッピングにて表示できる検査装置です。このほか、HEIZ(曇り)の測定も同時に行えます。(近似値)

研究開発プロジェクト

もう一つの装置技術部・・・開発プロジェクト。 株式会社中家製作所 装置技術部では次世代の成膜の研究開発といたしましてGZO透明導電膜成膜装置の開発を行っております。従来使用されている成膜はITOという成膜を施した製品が主となっております。しかしながらITOに必要なインジウムが近年非常に枯渇の危機にさらされている・非常に高価である(レアメタル)ことからITOに変わる次世代成膜GZO(ガリウム添加酸化亜鉛)を使用した成膜装置を開発いたしております。この開発は平成16年より産学官の連携により行われ、平成18年にはサポートインダストリー事業として取り上げられ、現在もITO成膜と同等にまで研究開発を進めております。株式会社中家製作所 装置技術部ではこの次世代の成膜の需要を見据えGZO透明導電膜成膜装置の研究開発にも力を注いで参ります。

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